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集成电路布图设计专有权的取得方式

发表在 资料&学习 2018-8-19 22:20 来自PC 复制链接 手机看帖 扫一扫!手机看帖更爽 0 88

本帖最后由 S1523335959 于 2018-8-19 22:21 编辑

    集成电路布图设计专有权的产生方式为登记制。即作者把集成电路布图设计向国家知识产权局登记而产生。未经登记的布图设计不受保护。布图设计自其在世界上任何地方首次商用之日起两年内,未向国家知识产权局提出登记申请的,国家知识产权局不再予以登记。

    一、申请应提交的材料

    向国家知识产权局申请布图设计登记的,应当提交以下材料:布图设计登记申请表一式两份;一份布图设计的复制件或者图样;布图设计在申请日以前已投入商业利用的,还应当提交四件含有该布图设计的集成电路样品;国家知识产权局规定的其他材料。

集成电路布图设计证.gif

    二、保密信息的处理

    布图设计在申请日之前没有投入商业利用的,该布图设计登记申请可以有保密信息,其比例最多不得超过该集成电路布图设计总面积的50%。布图设计登记申请有保密信息的,含有该保密信息的图层的复制件或者图样纸件应当置于在另一个保密文档袋中提交。含有保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数应当与布图设计登记申请表中所填写的一致。除侵权诉讼或者行政处理程序需要外,任何人不得查阅或者复制该保密信息。

    三、提出申请的时间

    布图设计创作完成之后,就可以向国家知识产权局提出登记申请。但是,布图设计最迟应当自其在世界任何地方首次商业利用之日起两年内,向国家知识产权局提出登记申请。未在该期限内向国家知识产权局提出登记申请的,国家知识产权局不再予以登记。

    四、不予受理的情形

    集成电路布图设计登记申请有下列情形之一的,国家知识产权局不予受理,并通知申请人:

    1、未提交布图设计登记申请表或者布图设计的复制件或者图样的,已投入商业利用而未提交集成电路样品的,或者提交的上述各项不一致的;

    2、外国申请人的所属国未与中国签订有关布图设计保护协议且未与中国共同参加有关国际条约的;

    3、所涉及的布图设计自创作完成日起已经超过15年的;

    4、所涉及的布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起满两年后才向国家知识产权局提出登记申请的;

    5、申请文件未使用中文的;

    6、申请类别不明确或者难以确定其属于布图设计的;

    7、未按规定委托代理机构的;

    8、布图设计登记申请表填写不完整的。





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